2010年6月22-23日，甯波材料所承擔的中國(guó)科學(xué)院重大科研裝備研制項目——“雙彎曲磁過(guò)濾陰極電弧複合磁控濺射鍍膜裝置”,順利通過(guò)了中國(guó)科學(xué)院計劃财務局組織的專家驗收。驗收組由來自沈陽科儀、中科院物理所、蘭化所、固體所、金屬所等有關單位的專家組成(chéng)。

驗收會上，項目負責人、甯波材料所表面(miàn)工程與再制造事(shì)業部研究員汪愛英向(xiàng)專家組做了項目研制工作、經(jīng)費決算和用戶使用報告。技術測試組從研制裝備的運行、使用情況、和重點開(kāi)展的技術測試實驗結果角度，做了技術測試報告。驗收專家組現場考察了研制的裝備系統并審核了相關技術資料，進(jìn)行了認真提問和讨論，認爲項目組完成(chéng)并部分超過(guò)了合同書規定的各項指标内容，驗收材料齊全，經(jīng)費使用合理，一緻同意通過(guò)驗收。

同時，專家組對(duì)該項目完成(chéng)情況也給予了較高評價，指出該研制裝備不僅爲甯波材料所更好(hǎo)完成(chéng)高性能(néng)碳膜材料研究工作提供了良好(hǎo)技術平台，而且項目執行過(guò)程中與區域特色企業的緊密結合，也爲促進(jìn)我院重大科研裝備成(chéng)果的進(jìn)一步工程應用發(fā)揮了積極作用。

專家組技術測試現場

項目驗收現場

項目背景：目前，具有高離化率、高沉積速率的陰極電弧沉積技術（CVA）是沉積ta-C超硬碳膜的主要方法，但制備過(guò)程中存在的宏觀大顆粒協同沉積和薄膜中的高殘餘應力關鍵問題，使其廣泛應用受到極大限制。國(guó)内外采用不同結構設計的磁過(guò)濾技術雖在一定程度上可緩解大顆粒的污染問題，但在沉積速率和設備複雜度等方面(miàn)尚存在不足。在2008年院裝備研制項目資助下，項目組通過(guò)系統理論計算、優化結構設計、關鍵部件選型與加工等大量工作，成(chéng)功研制出了一套具有我國(guó)自主知識産權的運行可靠、先進(jìn)的雙彎曲磁過(guò)濾陰極真空電弧複合磁控濺射沉積裝置。該裝置兼具宏觀大顆粒過(guò)濾有效、等離子體傳輸高效、大面(miàn)積均勻低溫沉積的優點，而且結合研制的技術成(chéng)熟、易于實現金屬沉積的磁控濺射複合技術特點，通過(guò)工藝參數調控，采用該裝置能(néng)夠可控制備出不同結構、功能(néng)設計的高性能(néng)薄膜材料。目前，項目組已初步制備出超硬（64GPa）、強膜基結合力（60N）、低應力（<6GPa）、低摩擦系數（0.1）、表面(miàn)光滑的高質量ta-C碳膜材料，掌握了超薄ta-C碳膜可控技術，并實現了濺射制備超硬TiN（47GPa）薄膜材料工藝技術新突破。該裝備的研制成(chéng)功，不僅爲我所承擔的相關碳膜科研任務提供了重要的技術平台支持，也將(jiāng)進(jìn)一步推動MEMS、信息存儲、航空航天等高技術領域用高質量碳膜、金屬（化合物）薄膜材料技術的發(fā)展。

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 （供稿：表面(miàn)事(shì)業部  柯培玲/周毅　  攝影：周毅）